 
|
BFU Mega-Size Bottom-Access ventilator filter unit.
Productdetails:
| Place of Origin: | Guangdong, China |
| Merknaam: | MRJH |
| Certificering: | ISO 14644,CE,GMP,FDA,UL |
| Modelnummer: | BFU onderste afneembare FFU 1220X1220X450 |
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
| Minimum Order Quantity: | 1 |
|---|---|
| Prijs: | Contact Us |
| Levertijd: | 7-15 dagen |
|
Gedetailleerde informatie |
|||
| Op maat gemaakt: | Ondersteuning | Officiële Website: | Het is de bedoeling van de Commissie om de volgende maatregelen te treffen: |
|---|---|---|---|
| Certificering: | ISO,CE,UL,RoHS | ||
Productomschrijving
BFU Mega-Size Bottom-Access FFU. Ultra-High-Capacity Cleanroom Air System. Filtratie van halfgeleiderkwaliteit en nul onderhoud.
De BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 vertegenwoordigt een doorbraak in grootschalige cleanroom luchtbehandeling, speciaal ontworpen voor halfgeleider gigafabs, LCD-productie,en productiefaciliteiten voor vaccins die een ononderbroken ISO-klasse 1-3-omgeving vereisenMet de grootste afzonderlijke afdekkingsoppervlakte van de industrie (1,48 m2), levert deze FFU een luchtstroom van 2200 m3/h met een uitzonderlijke snelheidsvariatie van < 0,2% in ultrazuivere zones.
|
Naam van de parameter |
Waarde |
|
Materiaal |
Doos: gegalvaniseerd aluminiumplaat; Diffuser: koud plaat met gebakken verf |
|
Ventilatorsysteem |
MRJH-motor + ijzeren wervelkolom |
|
Filtratie |
Aluminiumframe HEPA-filter (1170×570×90), Efficiëntie: 99,99% @0,3μm (H13) |
|
Luchtsnelheid |
0.45 ∙ 0,75 m/s ± 3% (verstelbaar met drie snelheden) |
|
Nominale luchtvolume |
2000 m3/h |
|
Geluidsniveau |
4655 dB ±5 dB (statische test 1,5 m onder het filter) |
|
Stroomvoorziening |
220V/50Hz, nominale vermogen: 170W/200W ±5W |
|
Flankenverbinding |
Optioneel D=350 mm |
|
Openingsgrootte |
Kleurstaalplaat: 1225×625 mm |
|
grootte |
1220X1220X450 mm |
|
Certificeringen |
ISO 14644-1,ISO 9001,CE |
| Parameter/kenmerk | Ons product | Gemiddeld op de markt | Voordelen |
|---|---|---|---|
| H13 Filterpleetgetal | 315 plooien | 260 plooien | Een groter filteroppervlak, waardoor de filterdoeltreffendheid en de stofhoudendheid worden verbeterd. |
| HEPA-filter | - | - | Een grotere dikte van het filtermedium verbetert de filtratie-efficiëntie en de levensduur. |
| Pleienhoogte | 50 mm | 38 mm | Een dikker filtermedium verbetert de filterprestaties en de levensduur. |
| Beschermingsmaasmerk | Hoogwaardig 9N merk | Generieke merken | Superieure ondersteuning en bescherming, waardoor de structurele stabiliteit wordt gewaarborgd. |
| Dikte van het frame | 1.0 mm | 0.7 mm | Sterker frame voor meer duurzaamheid en minder risico op vervorming. |
| Pottenproces en materialen | 50 eenheden per partij, Fuming AB-lijm, vervaardigd met potmachines van 400k CNY | Standaardprocessen | Een strak en gelijkmatig afdichtingsmechanisme voorkomt lekken en garandeert een betrouwbare filtratie. |
| Gemiddelde luchtstroomsnelheid | 0.8 m/s | 0.65 m/s | Een hogere luchtstroomcapaciteit met een lagere weerstand, wat de efficiëntie van het systeem verhoogt. |
| Motor | Waterdicht | niet-waterdicht | Verbeterde veiligheid en betrouwbaarheid in diverse omgevingen. |
Belangrijkste kenmerken
1.Duurzame constructie: gegalvaniseerde aluminium doos met gebakken verf diffuser zorgt voor corrosiebestendigheid en levensduur.
2.High-Performance Fan System: MRJH-motor met robuuste ijzeren stuwbaan zorgt voor een stabiele luchtstroom en verbeterde duurzaamheid.
3.Precieze luchtstroomregeling: drieversnellingsstelbare windsnelheid (0,45 ∼0,75 m/s ±3%) voor flexibele vereisten voor een cleanroom.
4.H13-filtratie: HEPA-filter zonder partitie (1170×570×90) bereikt 99,99% efficiëntie bij deeltjes van 0,3 μm.
5.Luchtstroom met een hoge capaciteit: nominale luchtvolume van 2000 m3/h voor grootschalige ventilatie in een cleanroom.
6.Onderaan afneembare vormgeving: vereenvoudigt onderhoud en vervanging van het filter.
7.Grote flenscompatibiliteit: ondersteunt flensverbindingen (D=350 mm) voor modulaire systeemintegratie.
8.Laag geluid: ontworpen voor 46 ‰ 55 dB (± 5 dB) bij 1,5 m onder het filter.
Toepassingsscenario's
Luchtzuivering in de schoonruimte in farmaceutische, elektronische en biotechnologische installaties.
Vervaardigingszones waarvoor ISO-gecertificeerde H13-filtratie met een grote luchtstroom (2000 m3/h) vereist is.
Faciliteiten die een grootschalige modulaire installatie (350 mm flens compatibiliteit) en eenvoudig onderhoud vereisen.
Veelgestelde vragen:
1V: Hoe heeft het 1220X1220X450mm mega-size ontwerp voordelen voor halfgeleider gigafabs in vergelijking met standaard FFU's?
A: Onze mega-grootte FFU levert drie game-veranderende voordelen voor 300mm wafer fabrieken:
70% vermindering van de plafondpenetratie (1 eenheid vervangt 4 standaard FFU's), waardoor het risico op verontreiniging tot een minimum wordt beperkt
Ongeëvenaarde uniformiteit van de luchtstroom (< ± 0,15% snelheidsverschuiving) over hele fotolithografie-ruimtes
Geïntegreerde service rails maken robotfilterveranderingen mogelijk zonder dat de cleanroomprotocollen worden overtreden (ISO-klasse 1 wordt tijdens het onderhoud gehandhaafd)
2V: Wat maakt uw "zero downtime onderhoud" echt verschillend van andere onderste toegang FFUs?
A: Het systeem combineert drie gepatenteerde technologieën:
Automatisch afdichtende NanoGasketTM handhaaft negatieve druk tijdens filterwisselingen
Precisiegeleide robotica voltooit H14 ULPA-veranderingen in 110 seconden (tegenover 30+ minuten handmatig)
Slimme deeltjestellers valideren automatisch de integriteit van het filter na de service, waardoor de traditionele stilstand van 4 uur voor herkwalificatie wordt geëlimineerd
3V: Hoe beschermt een halfgeleiderfiltratie specifiek EUV-lithografieprocessen?
A: Onze oplossing richt zich op de drie grootste besmettingsbedreigingen van lithografie:
AMC-beheersing: geactiveerde koolstoflaag verwijdert >99% van de moleculaire verontreinigingen in de lucht
Opvang van nanodeeltjes: 99,9995% efficiëntie op deeltjes van 0,12 μm (kritisch voor de opbrengst van knopen van 3 nm)
Vibratie-eliminatie: Magnetische levitatie zorgt voor een trilling van 0,03 μm/s - 10x beter dan de eisen van ASML