 
|
BFU Mega-Size Bottom-Access Fan Filter Unit met halfgeleider-grade filtratie en nul onderhoud voor cleanroom luchtsystemen
Productdetails:
| Place of Origin: | Guangdong, China |
| Merknaam: | MRJH |
| Certificering: | ISO,CE,GMP,FDA,UL,ATEX,RoHS |
| Modelnummer: | BFU onderste afneembare FFU 1220X1220X450 |
Betalen & Verzenden Algemene voorwaarden:
| Minimum Order Quantity: | 1 |
|---|---|
| Prijs: | Contact Us |
| Levertijd: | 7-15 werkdagen |
|
Gedetailleerde informatie |
|||
| Op maat gemaakt: | steun | Certificering: | ISO,CE,UL,RoHS |
|---|---|---|---|
Productomschrijving
BFU megagrote ventilatorfiltereenheid met toegang vanaf de onderkant | Filtratie van halfgeleiderkwaliteit en onderhoud zonder downtime
Cleanroom-luchtsysteem met ultrahoge capaciteit
De BFU Mega-Size Bottom-Access FFU 1220X1220X450 vertegenwoordigt een doorbraak in grootschalige luchtbehandeling in cleanrooms, speciaal ontworpen voor halfgeleider gigafabs, LCD-productie en vaccinproductiefaciliteiten die ononderbroken ISO Klasse 1-3-omgevingen vereisen. Met het grootste dekkingsgebied van één eenheid in de sector (1,48 m²) levert deze FFU een luchtstroom van 2.200 m³/u, terwijl de uitzonderlijke snelheidsvariatie van <0,2% in ultraschone zones behouden blijft.
Technische specificaties
| Parameternaam | Waarde |
|---|---|
| Materiaal | Doos: gegalvaniseerde aluminiumplaat; Diffusor: koude plaat met gebakken verf |
| Ventilatorsysteem | MRJH motor + ijzeren waaier |
| Luchtsnelheid | 0,45-0,75 m/s ±3% (instelbaar met drie snelheden) |
| Nominaal luchtvolume | 2000 m³/u |
| Geluidsniveau | 46-55 dB ±5 dB (statische test 1,5 m onder filter) |
| Voeding | 220V/50Hz, nominaal vermogen: 170W-200W ±5W |
| Flensverbinding | Optioneel D=350mm |
| Openingsgrootte | Kleur staalplaat: 1225×625 mm |
| Maat | 1220X1220X450 (mm) |
| Certificeringen | ISO 14644-1, ISO 9001, CE |
Concurrentievoordelen
| Parameter/functie | Ons product | Marktgemiddelde | Voordelen |
|---|---|---|---|
| Filterplooitelling | 315 plooien | 260 plooien | Groter filteroppervlak, waardoor de filtratie-efficiëntie en de stofopnamecapaciteit worden verbeterd |
| HEPA-filter | - | - | De grotere dikte van de filtratiemedia verbetert de filtratie-effectiviteit en levensduur |
| Plooi Hoogte | 50 mm | 38 mm | Dikkere filtratiemedia verbeteren de filtratieprestaties en de levensduur |
| Beschermend mesh-merk | Hoogwaardig merk 9N | Generieke merken | Superieure ondersteuning en bescherming, waardoor structurele stabiliteit wordt gegarandeerd |
| Framedikte | 1,0 mm | 0,7 mm | Sterker frame voor verbeterde duurzaamheid en minder risico op vervorming |
| Oppotproces en materialen | 50 eenheden per batch, Fuming AB-lijm, geproduceerd met oppotmachines van CNY 400k | Standaard processen | Een strakke, uniforme afdichting voorkomt lekken en garandeert een betrouwbare filtratie |
| Gemiddelde luchtstroomsnelheid | 0,8 m/s | 0,65 m/s | Hogere luchtstroomcapaciteit met lagere weerstand, waardoor de systeemefficiëntie wordt verhoogd |
| Motor | Waterdicht | Niet waterdicht | Verbeterde veiligheid en betrouwbaarheid in diverse omgevingen |
Belangrijkste kenmerken
- Duurzame constructie: Gegalvaniseerde aluminium doos met diffuser van gebakken verf zorgt voor corrosiebestendigheid en een lange levensduur
- Hoogwaardig ventilatorsysteem: MRJH-motor met robuuste ijzeren waaier zorgt voor een stabiele luchtstroom en verbeterde duurzaamheid
- Nauwkeurige luchtstroomregeling: instelbare windsnelheid met drie snelheden (0,45-0,75 m/s ±3%) voor flexibele cleanroomvereisten
- Filtratie: HEPA-filter zonder partitie (1170×570×90) zorgt voor superieure deeltjesvangst
- Luchtstroom met hoge capaciteit: nominaal luchtvolume van 2000 m³/u voor grootschalige ventilatie in cleanrooms
- Afneembaar ontwerp aan de onderkant: Vereenvoudigt onderhoud en filtervervanging
- Compatibiliteit met grote flens: Ondersteunt flensverbindingen (D=350 mm) voor modulaire systeemintegratie
- Laag geluidsniveau: Ontworpen voor 46-55 dB (±5 dB) werking op 1,5 m onder het filter
Toepassingsscenario's
Cleanroom-luchtzuivering in farmaceutische, elektronische en biotechnologische faciliteiten.
Productiezones die een ISO-gecertificeerde filtratie met een hoge luchtstroom (2000 m³/u) vereisen.
Faciliteiten die grootschalige modulaire installatie (350 mm flenscompatibiliteit) en eenvoudig onderhoud nodig hebben.
Veelgestelde vragen
Vraag: Welke voordelen heeft het megaformaatontwerp van 1220 x 1220 x 450 mm voor halfgeleider-gigafabs in vergelijking met standaard FFU's?
A: Onze megagrote FFU biedt drie baanbrekende voordelen voor wafelfabrieken van 300 mm:
70% vermindering van plafonddoorvoeringen (1 eenheid vervangt 4 standaard FFU's), waardoor besmettingsrisico's worden geminimaliseerd
Ongeëvenaarde luchtstroomuniformiteit (<±0,15% snelheidsvariatie) over gehele fotolithografieruimtes
Geïntegreerde servicerails maken robotische filtervervanging mogelijk zonder de cleanroomprotocollen te verbreken (ISO-klasse 1 blijft gehandhaafd tijdens het onderhoud)
70% vermindering van plafonddoorvoeringen (1 eenheid vervangt 4 standaard FFU's), waardoor besmettingsrisico's worden geminimaliseerd
Ongeëvenaarde luchtstroomuniformiteit (<±0,15% snelheidsvariatie) over gehele fotolithografieruimtes
Geïntegreerde servicerails maken robotische filtervervanging mogelijk zonder de cleanroomprotocollen te verbreken (ISO-klasse 1 blijft gehandhaafd tijdens het onderhoud)
Vraag: Wat maakt uw "zero downtime-onderhoud" echt anders dan andere FFU's met toegang tot de onderkant?
A: Het systeem combineert drie gepatenteerde technologieën:
De automatisch afdichtende NanoGasket™ handhaaft de negatieve druk tijdens het vervangen van filters
Nauwkeurig geleide robotica voltooit ULPA-wijzigingen in 110 seconden (vs. 30+ minuten handmatig)
Slimme deeltjestellers valideren automatisch de filterintegriteit na gebruik, waardoor de traditionele herkwalificatie-downtime van 4 uur wordt geëlimineerd
De automatisch afdichtende NanoGasket™ handhaaft de negatieve druk tijdens het vervangen van filters
Nauwkeurig geleide robotica voltooit ULPA-wijzigingen in 110 seconden (vs. 30+ minuten handmatig)
Slimme deeltjestellers valideren automatisch de filterintegriteit na gebruik, waardoor de traditionele herkwalificatie-downtime van 4 uur wordt geëlimineerd
Vraag: Hoe beschermt halfgeleiderfiltratie specifiek EUV-lithografieprocessen?
A: Onze oplossing richt zich op de drie grootste besmettingsbedreigingen van lithografie:
AMC-controle: Actieve koolstoflaag verwijdert moleculaire verontreinigingen in de lucht
Afvang van nanodeeltjes: Superieure opvang van kritische deeltjes (cruciaal voor <3nm knooppuntopbrengst)
Trillingseliminatie: Magnetische levitatie zorgt voor trillingsreductie - 10x beter dan de eisen van ASML
AMC-controle: Actieve koolstoflaag verwijdert moleculaire verontreinigingen in de lucht
Afvang van nanodeeltjes: Superieure opvang van kritische deeltjes (cruciaal voor <3nm knooppuntopbrengst)
Trillingseliminatie: Magnetische levitatie zorgt voor trillingsreductie - 10x beter dan de eisen van ASML
Wilt u meer details over dit product weten